EOS amplia le soluzioni di stampa 3D industriale con due nuovi materiali metallici

EOS, fornitore leader di soluzioni di produzione responsabile per la stampa 3D industriale, ha annunciato la disponibilità di due nuovi materiali metallici per la produzione additiva (AM): EOS NickelAlloy IN718 API e EOS Nickel NiCP, entrambi in grado di offrire prestazioni e proprietà eccellenti per la tecnologia di stampa 3D EOS Laser Powder Bed Fusion (LBPF).

EOS NickelAlloy IN718 API: Ideale per applicazioni ad alte prestazioni nel settore petrolifero e del gas con requisiti standard API 6ACRA.
Questo materiale a base di nichel combina un'elevata tenacità a basse temperature e un'eccellente resistenza alla corrosione per le applicazioni petrolifere e del gas ad alte sollecitazioni. Con una resistenza alla trazione di 878 MPa e un allungamento del 27%, in combinazione con un trattamento termico specifico, questo materiale soddisfa i requisiti per la standardizzazione API 6ACRA, aprendo ai produttori di petrolio e gas la possibilità di utilizzare l'AM, tra l'altro, per applicazioni downhole, di iniezione e fissaggio e di fissaggio.

Un'organizzazione leader nella tecnologia di controllo degli afflussi ha fornito un primo caso di test per EOS NickelAlloy IN718 API, producendo un componente del modulo di flusso che soddisfa la standardizzazione API e le prestazioni ad alta resistenza, pur essendo sottoposto all'ambiente corrosivo delle apparecchiature per petrolio e gas.




EOS Nickel NiCP: Ideale per applicazioni chimiche e di semiconduttori che richiedono purezza, resistenza alla corrosione e duttilità del nichel.
Questo materiale offre una resistenza alla trazione di 400 MPa e un allungamento del 49%, che lo rendono un candidato ideale per applicazioni come gli iniettori di gas e i componenti resistenti alla corrosione all'interno delle apparecchiature per semiconduttori.

Le applicazioni tradizionalmente prodotte nell'industria dei semiconduttori spesso includono la nichelatura elettrolitica per aumentare la resistenza alla corrosione in condizioni chimicamente difficili. I pezzi possono ora essere prodotti interamente con EOS Nickel NiCP, eliminando la necessità di placcatura e prolungando così la durata del materiale di consumo.

"Con la produzione additiva di questi componenti, i produttori possono massimizzare i tempi di attività e la disponibilità delle macchine, il che a sua volta aumenta la produttività complessiva del processo di fabbricazione dei wafer e va a vantaggio dei ricavi dell'utente finale. L'eliminazione del processo di galvanizzazione, che genera rifiuti pericolosi, offre un processo produttivo più pulito e sostenibile per il futuro".
Sophia Heyl, specialista di prodotto EOS

"EOS Nickel NiCP è già stato impiegato con successo in ambienti di produzione, dimostrando la sua affidabilità e le sue prestazioni. Rendendolo più ampiamente disponibile, continuiamo a rafforzare il nostro impegno con l'industria dei semiconduttori e la nostra dedizione al progresso delle loro applicazioni attraverso materiali e processi innovativi. Non vediamo l'ora di lavorare con i nostri partner per spingere i confini di ciò che è possibile fare con il NiCP nella produzione additiva".
Dr. Ankit Saharan, direttore della tecnologia dei metalli di EOS




EOS NickelAlloy IN718 API è disponibile per tutti i sistemi EOS in metallo con processi a parametri EOS IN718 standard. EOS Nickel NiCP è ora disponibile in commercio per EOS M 290 e EOS M 400.